Vào tháng Tư năm nay, tổ chức nghiên cứu Thụy Sĩ "Empa", đứng đầu là Giáo sư Tiến sĩ Ayodhya Tiwari, đã công bố một phương pháp sản xuất hiệu quả hơn và thân thiện với môi trường hơn cho các lớp phủ dẫn điện trong suốt trong lĩnh vực ETH. Làm thế nào chúng được sử dụng như cái gọi là TCO trong máy tính bảng, máy tính xách tay, điện thoại thông minh, màn hình phẳng và pin mặt trời.
Quy trình sản xuất trước đây rất phức tạp và tốn kém
Cho đến nay, TCO (= Oxit dẫn điện trong suốt), bao gồm hỗn hợp oxit indi và thiếc, chủ yếu được sử dụng trong ngành điện. Tuy nhiên, indium có nhu cầu cao và giá cao tương ứng do sự khan hiếm nguyên liệu ngày càng tăng. Vì lý do này, biến thể rẻ tiền, oxit kẽm trộn với nhôm, đang được sử dụng ngày càng thường xuyên hơn. Điều này thường được áp dụng cho chất nền trong chân không cao bằng phương pháp phún xạ plasma, làm cho quá trình sản xuất tốn nhiều năng lượng, phức tạp và cũng tốn kém. Các nhà nghiên cứu của Empa thuộc bộ phận "Màng mỏng và Quang điện" hiện đã phát triển một phương pháp dựa trên nước được sử dụng để áp dụng một lớp muối nhôm và kẽm TCO cho chất nền mà không cần chân không.
Quy trình mới, ít tốn năng lượng hơn
Bước sản xuất cuối cùng, đóng rắn lớp TCO, là do phương pháp dựa trên nước cần ít năng lượng hơn trước. Theo các thành viên của nhóm nghiên cứu, cũng có thể sử dụng nhiều chất nền nhạy cảm với nhiệt hơn (ví dụ như nhựa dẻo) vì chất nền không còn được nung nóng đến 400 - 600 độ như trước đây mà chỉ đến 90 độ.
Chúng tôi không phải là những người duy nhất nghĩ rằng kết quả nghiên cứu nghe có vẻ thú vị. Theo Viện nghiên cứu EMPA, các bên quan tâm từ ngành công nghiệp đã tham gia. Vì vậy, công việc đã được tiến hành để thiết lập TCO của Empa trên quy mô lớn. Nếu bạn muốn tìm hiểu thêm về điều này, bạn có thể đọc báo cáo đầy đủ từ viện nghiên cứu có trụ sở tại Thụy Sĩ tại URL trong tài liệu tham khảo của chúng tôi.
