শিল্পপতি

গ্রাফিনের প্রকার এবং উত্পাদন প্রক্রিয়া

আইটিও বিকল্প হিসাবে গ্রাফিন

আমরা প্রায়শই রিপোর্ট করেছি যে গ্রাফিন বিশ্বের সবচেয়ে কঠিন এবং সবচেয়ে স্থিতিস্থাপক উপকরণগুলির মধ্যে একটি। গ্রাফিন হ'ল হীরা, কয়লা বা পেন্সিল লিডের গ্রাফাইটের একটি রাসায়নিক আপেক্ষিক - কেবল মাত্র ভাল।

এটিকে কিছু লোক "অলৌকিক উপাদান" ও বলে, কারণ কেবলমাত্র একটি পারমাণবিক স্তর সহ, এটি মহাবিশ্বের সবচেয়ে পাতলা পদার্থগুলির মধ্যে একটি - এক মিলিমিটার পুরু এক মিলিয়নেরও কম। এর অনেক সুবিধার কারণে এটির প্রচুর অর্থনৈতিক সম্ভাবনা রয়েছে এবং ভবিষ্যতে সৌর কোষ, ডিসপ্লে এবং মাইক্রোচিপ উত্পাদনের জন্য ব্যবহার করা যেতে পারে।



বিভিন্ন ধরণের গ্রাফিন রয়েছে, যার জন্য বিভিন্ন উত্পাদন কৌশলও প্রয়োজন। এই নিবন্ধে, আমরা আপনাকে বিভিন্ন ধরণের গ্রাফিনের সাথে সংক্ষিপ্তভাবে পরিচয় করিয়ে দেব।

মোনোলেয়ার গ্রাফিন হ'ল গ্রাফিনের বিশুদ্ধতম রূপ। এটি কার্বন পরমাণুর একটি 2 ডি হেক্সাগোনাল জালি নিয়ে গঠিত।

এগুলি কেবল গ্রাফিন স্তরগুলির বেশ কয়েকটি স্তর। গ্রাফিনের যত বেশি স্তর রয়েছে, তত বেশি তাপ পরিবাহিতা হ্রাস পায়। এমএলজি একটি যৌগিক উপাদান এবং একটি যান্ত্রিক শক্তিশালীকরণ হিসাবে উপযুক্ত।

গ্রাফিন অক্সাইড একটি পরিবর্তিত হামারস প্রক্রিয়া দ্বারা গ্রাফাইট পাউডার থেকে সংশ্লেষিত হয়। এটি নমনীয় ইলেকট্রনিক্স, তরল স্ফটিক ডিভাইস, রাসায়নিক সেন্সর এবং ইন্ডিয়াম টিন অক্সাইড প্রতিস্থাপন হিসাবে ব্যবহারের জন্য বিশেষত টাচস্ক্রিন ডিভাইসের জন্য উপযুক্ত।

হ্রাসকৃত গ্রাফিন অক্সাইড (আরজিও) পরিবাহী কালির জন্য আদর্শ। এটি গ্রাফিন অক্সাইডের মতো একইভাবে উত্পাদিত হয়।

গ্রাফাইট অক্সাইড গ্রাফিন অক্সাইড (জিও) এর পূর্বসূরী। একে গ্রাফিটিক অ্যাসিড বলা হত। এটি শক্তিশালী অক্সিডেন্টগুলির ক্রিয়াকলাপের অধীনে গ্রাফাইট থেকে পাওয়া যায়। 2000 এর দশকে, গ্রাফাইট অক্সাইড গ্রাফিন উত্পাদনের সম্ভাব্য অগ্রদূত হিসাবে আকর্ষণীয় হয়ে ওঠে।

গ্রাফাইট ন্যানোপ্লেটলেট, গ্রাফাইট ন্যানোলেয়ার এবং গ্রাফাইট ন্যানোফ্লেক্স হ'ল 100 ন্যানোমিটারেরও কম পুরুত্ব এবং / অথবা ট্রান্সভার্স মাত্রাসহ 2 ডি গ্রাফাইট উপকরণ। তারা বৈদ্যুতিক পরিবাহী যৌগিক উপকরণের জন্য আদর্শভাবে উপযুক্ত।

গ্রাফিনের প্রতি দ্রুত ক্রমবর্ধমান আগ্রহের কারণে, বিকাশ বিভিন্ন উত্পাদন পদ্ধতির একটি সম্পূর্ণ পরিসীমা উত্পাদন করেছে। গ্রাফিনের সবচেয়ে গুরুত্বপূর্ণ সংশ্লেষণ প্রক্রিয়াগুলির মধ্যে রয়েছে:

• গ্রাফিন অক্সাইড হ্রাস
• রাসায়নিক এবং যান্ত্রিক এক্সফোলিয়েশন
• রাসায়নিক বাষ্প জমা (সিভিডি)
• সিলিকন কার্বাইডের উপর এপিটাক্সিয়াল বৃদ্ধি